科学技術創成研究院(IIR)について

沿革
平成28年

  • 統合研究院を廃止し,資源化学研究所,精密工学研究所,応用セラミックス研究所,原子炉工学研究所,フロンティア研究機構,ソリューション研究機構,像情報工学研究所,量子ナノエレクトロニクス研究センターを統合して科学技術創成研究院を設置(元素戦略研究センターは科学技術創成研究院外の組織として存続)

平成24年
  • 元素戦略研究センターを設置,統合研究院の構成組織となる
平成22年

  • 精密工学研究所附属マイクロシステム研究センターを廃止し,同附属フォトニクス集積システム研究センターを設置

  • 原子炉工学研究所に附属原子力国際共同研究センターを設置

  • フロンティア研究センターを発展的に改組したフロンティア機構,(旧)ソリューション研究機構を発展的に改組した(新)ソリューション研究機構を研究施設として設置

  • 大学院理工学研究科附属像情報工学研究施設を廃止し,研究施設として像情報工学研究所を設置

  • (旧)統合研究院を廃止し,附置研究所及び研究施設を構成組織とする(新)統合研究院を設置

平成20年
  • 精密工学研究所に附属セキュアデバイス研究センターを設置
平成19年
  • フロンティア創造共同研究センター,ベンチャー・ビジネス・ラボラトリー,インキュベーションセンター,総合研究館の4施設を統合し,フロンティア研究センターに設置
平成18年
  • 応用セラミックス研究所附属構造デザイン研究センターを廃止し,同附属セキュアマテリアル研究センターを設置
平成17年
  • 統合研究院を設置,傘下にソリューション研究機構等を設置
平成16年
  • 量子効果エレクトロニクス研究センターを廃止し,量子ナノエレクトロニクス研究センターを設置
平成12年
  • 像情報工学研究施設を工学部附属施設から大学院理工学研究科附属施設へ移行

  • 精密工学研究所に附属マイクロシステム研究センター設置

平成10年
  • フロンティア創造共同研究センター設置
平成8年
  • 工業材料研究所を改組し,応用セラミックス研究所附置

  • 工業材料研究所附属セラミックス研究センターを改組し,応用セラミック研究所附属構造デザイン研究センター設置

平成6年
  • 量子効果エレクトロニクス研究センター及び生物実験センター設置
昭和63年
  • 工業材料研究所附属新素材セラミックス実験施設を廃止し,同附属セラミックス研究センター設置
昭和59年
  • 工業材料研究所附属新素材セラミック実験施設設置

  • 工業材料研究所附属水熱合成材料実験施設廃止

昭和51年
  • 工業材料研究所に附属水熱合成材料実験施設設置
昭和49年
  • 資源化学研究所に附属資源循環研究施設設置

  • 工学部附属印写工学研究施設を同附属像情報工学研究施設と改称

昭和39年
  • 原子炉研究施設を廃止し,原子炉工学研究所附置

  • 印刷技術研究施設を印写工学研究施設と改称

昭和33年
  • 建築材料研究所及び窯業研究所を統合し,工業材料研究所附置
昭和31年
  • 理工学部に原子炉研究施設設置
昭和29年
  • 建築材料研究所,資源化学研究所,精密機械研究所,窯業研究所,電気科学研究所及び燃料科学研究所を建築材料研究所,資源化学研究所,精密工学研究所及び窯業研究所に整備し,学部に印刷技術研究施設設置
昭和24年
  • 旧制東京工業大学,同附属予備部及び同附属高等工業教員養成所は新制に包括し,建築材料研究所,資源化学研究所,精密機械研究所,窯業研究所,電気科学研究所及び燃料科学研究所附置
昭和21年
  • 電子工学研究所を電気科学研究所と改称
昭和19年
  • 燃料科学研究所附置

  • 電子工学研究所附置

昭和18年
  • 窯業研究所附置
昭和14年
  • 精密機械研究所附置

  • 資源化学研究所附置

昭和9年
  • 建築材料研究所附置

 

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